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我区修订专利资助办法

大足人民 网  2016-11-18 16:06

[摘要] 发明专利高资助调整为20000元/件

记者从区知识产权局获悉,为鼓励发明创造,保护创新成果,提升专利质量,我区对原有专利资助办法进行了修订,发明专利资助资金调整为高20000元/件。

据介绍,此次修订的资助办法中,新增了鼓励向区外购买或引进发明专利,对获得发明专利 权并且转让后专利权人地址在本辖区内的,一次性给予资助15000元/件。此外,发明专利资助及奖励额度大幅提高,新修订的资助办法将国内发明专利资助由原来的6000元/件调整为10000元/件,且从授权日起至第3年按时交纳专利维持费的每年给予资助300元/件,从第4至6年按时交纳专利维持费的每年给予资助400元/件。国外发明专利授权资助由原来的12000元/件调整为20000元/件,同一发明专利多资助在2个国家获得的专利权。

除此之外,不论国内国外实用新型专利,获得专利证书后一次性资助调整为800元/件;不论国内国外外观设计专利,获得专利证书后一次性资助调整为500元/件。专利资助每年开展两次,申请资助并提交相关材料的时间为每年1月1日至1月30日和7月1日至7月30日。专利资助在该专利符合资助条件后一年内申报有效,不再受理。原《重庆市大足区专利资助与奖励办法(试行)》同时废止。

据悉,修订后的全区专利资助奖励办法的主要特点是,由以往重视专利申请数量向提高质量转变,实现了资助向发明专利、职务专利、国际专利倾斜,将对全区专利质量的提高产生积极影响。

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